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发布时间:2022-08-30 21:13:04
氦质谱检漏常见问题
氦质谱检漏仪是现在比较常用的检测仪器,那么在使用过程中我们又遇到哪些问题呢?今天科创鼎新的小编就和大家来一起总结一下!
一、为什么用氦气作为示踪气体?其他气体可以吗?(1)在空气中含量低(只有5 ppm),环境本底低
(2)惰性气体不易1燃,不易1爆对环境没有污染,不与其他物质反应,可以混合到任意浓度
(3)***,可以用在食品工业
(4)在质谱仪谱图中易于与其他物质区分
(5)比空气轻,运动速度快
(6)气体分子很小,可以穿过微小的泄漏孔
(7)其它气体也可以
二、喷氦检漏的注意事项。
(1)被测系统应尽量清洁,干燥,无油
(2)如果测量条件发生变化(温度),需要重新对检漏仪做内部较准
(3)氦气比空气轻,喷氦法检漏应注意方向
(4)尽量不要使用密封脂(油脂会大量吸附氦气)
(5)不要向环境释放大量氦气
(6)真实的漏率信号应当是快速上升的信号,相对缓慢下降的信号
三、漏率(leak rate)
在已知漏泄处两侧压差的情况下,单位时间内流过漏泄处的给定温度的干燥气体量。
注:采用国际单位制时,漏率单位为:Pa?m3/s。
科创真空拥有***的技术,我们都以质量为本,信誉高,我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对氦检漏感兴趣,欢迎点击左右两侧的在线***,或拨打咨询电话。
真空箱氦检漏基本功能
操作者把工件放在真空箱内,将工件接口与真空箱内的快速接头进行连接,在真空箱门关闭后,系统能全自动的完成大漏检测、工件强度检测、抽空、充氦、检漏、回收整个过程,生产节拍快,检漏精度高。工艺流程编辑A1:安装工件-----关真空箱门-----真空箱抽真空,同时工件内充高压氮气-----大漏及强度检测;B1:若A1检测不通过,则系统报警,大漏工件序号显示-----检测程序中止;B2:若A1检测通过,放掉氮气------对工件抽真空------真空箱内的氦气本底抑零-----工件内充入氦气-------真空模式,微漏检测;C1:若B2检测不通过,则系统报警-----循环检,小漏工件序号显示------检测程序中止;4、区分虚漏与真漏,被检件放入液体中,其表面的吸附气体可能形成气泡,需要与漏孔形成的气泡加以区分,须将这些气泡抹掉后再进行观察。C2:若B2检测通过,真空箱内充入大气,同时工件内氦气回收-------真空箱开门,检测完成。
期望大家在选购氦检漏设备时多一份细心,少一份浮躁,不要错过细节疑问。想要了解更多氦检漏设备的相关资讯,欢迎拨打图片上的***电话!!!
氦气检漏设备主要技术指标
实际使用氦气检漏设备时,其较小可检出泄漏率为5×10-13Pa·m3 / s; 泄漏率显示的范围为1×10-3—1×10-13Pa·m3 / s。; 启动时间保持在小于等于3min的范围内; 响应时间小于或等于1。0s; 检漏口较大压力:1000Pa;氦检测精度要求:由于不同生产企业对产品的检测要求不尽相同,但一般都会遵循行业标准,或比行业标准要求稍高。 电源需要220v,50Hz,单相,10A。
使用氦气检漏设备时,请注意其机械泵的抽速为4L / S; 工作环境要求为5-40℃;本产品信息由科创真空提供,如果您想了解更多您可拨打图片上的电话进行咨询,科仪创新竭诚为您服务。 应注意相对湿度必须小于或等于80%; 尺寸:600(W)×550(D)×1000(H); 通常重量将保持在65kg。 关于氦气检漏设备,应注意其配备了标准氦气检漏装置,包括更详细的校准报告。
半导体设备及材料需要检漏原因
1、半导体设备要求高真空,比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间,耗时耗力;
2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染,对半导体的特性改变并***其性能,因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏;
3、一些半导体设备要用到***或有腐蚀性的特殊气体,经过氦质谱检漏后,在低漏率真空条件下,这些气体不易外泄,设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物,保障工作人员安全和大气环境。
4、芯片封装,一旦出现泄漏,芯片就会失效。
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